Fotoresist Strippen

Hohe Stripp-Raten und exzellente Homogenität über große Substratflächen sind charakteristisch für Tepla Mikrowellensysteme. Der Mikrowellenplasma-Prozess profitiert von der hohen Radikalkonzentration und der hohen Plasmadichte. Die niedrige kinetische Energie der atomaren und molekularen Anteile im MW-Plasma minimiert die Partikelkontamination und die Aufheizung der Substratoberfläche. Durch die isotrope Eigenschaft des Mikrowellenplasmas werden auch verdeckte Oberflächenbereiche gereinigt.

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